兆聲波通過噴頭內液體傳播

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KAIJO水幕清洗機USSHOWER78BK30-660用于大型液晶基板和半導體晶圓的單片清洗.由于淋浴和超聲波同時清洗，因此無需重新安裝即可進行超精密清洗

KAIJO水幕清洗機USSHOWER6879BK用于大型液晶基板和半導體晶圓的單片清洗.由于淋浴和超聲波同時清洗，因此無需重新安裝即可進行超精密清洗

KAIJO水幕清洗機USSHOWER6879BK用于大型液晶基板和半導體晶圓的單片清洗.由于淋浴和超聲波同時清洗，因此無需重新安裝即可進行超精密清洗

KAIJO水幕清洗機USSHOWERAD98S用于大型液晶基板和半導體晶圓的單片清洗.由于淋浴和超聲波同時清洗，因此無需重新安裝即可進行超精密清洗

KAIJO水幕清洗機USSHOWERAD88S用于大型液晶基板和半導體晶圓的單片清洗.由于淋浴和超聲波同時清洗，因此無需重新安裝即可進行超精密清洗

KAIJO水幕清洗機USSHOWERAD78S用于大型液晶基板和半導體晶圓的單片清洗.由于淋浴和超聲波同時清洗，因此無需重新安裝即可進行超精密清洗

KAIJO水幕清洗機USSHOWERAD68S用于大型液晶基板和半導體晶圓的單片清洗.由于淋浴和超聲波同時清洗，因此無需重新安裝即可進行超精密清洗

KAIJO水幕清洗機USSHOWERAD58S用于大型液晶基板和半導體晶圓的單片清洗.由于淋浴和超聲波同時清洗，因此無需重新安裝即可進行超精密清洗

ＱUAVA系列發生器（26kHz～950kHz）可用0.1W功率設置

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